첨단분석 / 시험 서비스

Circuit Edit

    Circuit Edit

    • 반도체 IC 내의 Metal Line Cutting ,연결 하여 회로를 수정
    • Ion Beam을 주사하여 원하는 영역/형태로 식각 할 수 있으며 (Metal Line Cutting, Oxide Etching), 금속물질(W, Pt등),비전도성물질(C,O)을 원하는 형태로 증학 시킬 수 있습니다.
    • 식각과 증착의 기능을 이용하여 IC의 회로 수정을 진행 할 수 있으며, 이는 설계상의 이상을 수정하는데 있어 용이합니다.
    • 회로수정을 활용하여 공정 변경및 검증에 대한 시간적,비용적 절감 할 수 있습니다.

    분석 적용

    • Metal-Metal Deposition
    • PAD
    • Metal Cutting

    장비 스펙

    분석장비 상세정보
    제작사/모델명 : 1540 EsB / CARL ZEISS
    1. Resolution : 7nm @ 30kV guaranteed, 5mm achievable
    2. Magnifcation : 600x - 500kx
    3. Probe Current : 1pA - 50 nA
    4. Emitter : Ga liquid metal ion source(LMS)
    5. Detectors : In-column : Esb with fitering grid(BSE) Fitering grid voltage 0 - 1500V
    6. Operating pressure : 5 x 10 - 5 mbar or lower
    7. Specimen Stage : 6-axes fuly exxentric, all motorized
    8. Gas Injection System : Up to 5 gases for selecive Etching, enhanced etching, material deposition, Insulator deposition

    분석 사례

    • Metal Cutting
    • Pattern PAD 형성
    • Metal Cutting, Deposition