첨단분석 / 시험 서비스

EMMI

    EMMI

    • 반도체에 Bias를 인가 후 특정 위치에서 발생하는 빛 또는 열을 검출하는 장비입니다.
    • 발광 영역은 주로 Gate Poly 관련 하여 방출되며, 열의 경우 저항부분에 전류가 흐르면서 방출 됩니다.
    • 주로 반도체의 누설전류 (Leakage Current), Short 불량 위치를 검출 할 때 사용하고
      Photon Emission 의 경우 OBIRCH System이 포함되어 불량위치를 정밀하게 확인하는데 용이하며
      Thermal Emission의 경우 Lock-in System이 포함되어 Noise는 감소하고 Hot Spot을 증폭시켜주는
      기능을 활용 하여 Spot을 찾는데 용이합니다.

    분석 적용

    • Metal Shrot
    • ESD Fail
    • Leakage Fail
    • Junction Leakage
    • Oxide Broken

    장비 스펙

    분석장비 상세정보
    제작사/모델명 : PHEMOS-1000, THEMOS-1000/ HAMMATSU
    1. Dual Optical system
    2. Microscope stage with motorized X-Y-Z stage
    3. Macro lens 0.8x N.A. 0.4
    4. Long distance microscope objectives, IR-version 5x,20x,50x,100x
    5. NIR 1x for IR OBIRCH
    6. Laser scan unit
    7. Back side detection
    8. Cooled CCD Camera with EEV CCD chip
    9. Detector : InGaAs-Pin PD Resolution Max 1024 x 1024

    분석 사례

    • [THEMOS]
    • [PHEMOS]
    • [IR Camera]
      Damage 유무 확인